誘導シール シャンプー容器
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- Intro: SealingMaterial 2.0"直径のプラスチック シャンプー キャップ内のアルミニウム箔を加熱することを目的、プラスチック フリップ トップ キャップは 0.9"の径アルミの箔 sealTemperature 250-300 （120-150 ℃） 周波数 225 kHzEquipment UM UHF 6 kW の誘導のお…
目的プラスチック製箔、アルミニウムを加熱するには、シャンプーのシーリングのためのキャップ
材料直径 2.0"プラスチックのフリップ 0.9"径アルミ箔シールのトップ キャップ
温度250-300 º F (120-150 ° C)
周波数225 kHz
機器6 の力 kW の 2 つを含むリモート熱駅を設置して、誘導加熱システム、1.5 μ F コンデンサー （総容量 0.75 μ F)。
誘導加熱コイル設計、特にこのアプリケーション用に開発。
プロセス A 3 ターン 2 つポジション ヘリカル コイルを使用して、トンネル スタイル アセンブリのアルミ箔を加熱します。製品 （容器） は、誘導コイルの下で簡単に渡します。アルミ箔の全体の周囲に均一に加熱されるように、アセンブリが配置されて。コンテナーとキャップはコイルと 0.12 秒の配信高周波電力の下でに配置されます。アルミ箔加熱とプラスチックのキャップのシール。
結果/メリットこの誘導加熱の構成プロセスを満たす
要件と。
• シンプルで経済的なコイル設計を使用してください。
• は、デュアル ポジション コイルとスループットします。
• 高品質で一貫性のあるシールを提供します
• 反復可能なプロセスは、自動化に適しています
材料直径 2.0"プラスチックのフリップ 0.9"径アルミ箔シールのトップ キャップ
温度250-300 º F (120-150 ° C)
周波数225 kHz
機器6 の力 kW の 2 つを含むリモート熱駅を設置して、誘導加熱システム、1.5 μ F コンデンサー （総容量 0.75 μ F)。
誘導加熱コイル設計、特にこのアプリケーション用に開発。
プロセス A 3 ターン 2 つポジション ヘリカル コイルを使用して、トンネル スタイル アセンブリのアルミ箔を加熱します。製品 （容器） は、誘導コイルの下で簡単に渡します。アルミ箔の全体の周囲に均一に加熱されるように、アセンブリが配置されて。コンテナーとキャップはコイルと 0.12 秒の配信高周波電力の下でに配置されます。アルミ箔加熱とプラスチックのキャップのシール。
結果/メリットこの誘導加熱の構成プロセスを満たす
要件と。
• シンプルで経済的なコイル設計を使用してください。
• は、デュアル ポジション コイルとスループットします。
• 高品質で一貫性のあるシールを提供します
• 反復可能なプロセスは、自動化に適しています
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